ナノ粒子加工

表面被膜金属、酸化物、窒化物、弗化物、炭化物、合金、複合酸化物、コアシェル型合金など、幅広いナノ粒子を製造することができます。複数原料を同時に供給することによる「複合ナノ粒子」、原料粉末の「球状化処理」に対応することもできます。

【ナノ粒子製造方式】 高周波熱プラズマ法
※10000℃の反応場を用いた気相法であるため、比較的原料の形態を問わない。燃焼ガスや電極を用いないことからコンタミネーションのない製造が可能

ナノメタル

銀:Ag

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:41nm

SEM写真 DBET:41nm

TEM写真(有機物表面修飾処理)

TEM写真(有機物表面修飾処理)

銅:Cu

 XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:22nm

SEM写真 DBET:22nm

シリコン:Si

 XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:80nm

SEM写真 DBET:80nm

合金

銀-パラジウム:Ag-Pd

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:44nm

SEM写真 DBET:44nm

銅-ニッケル:Cu-Ni

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:51nm

SEM写真 DBET:51nm

ニッケル-タングステン:Ni-W

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:80nm

SEM写真 DBET:80nm

窒化物

窒化チタン:TiN

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:12nm

SEM写真 DBET:12nm

TEM写真

TEM写真

炭化物

炭化チタン:TiC

XRD回析パターン

XRD回析パターン

 TEM写真 DBET:25nm

TEM写真 DBET:25nm

炭化ケイ素:SiC

XRD回析パターン

XRD回析パターン

炭化ジルコニウム:ZrC

XRD回析パターン

XRD回析パターン

酸化物

イットリア:Y2O3

XRD回析パターン

XRD回析パターン

TEM写真 DBET:11nm

TEM写真 DBET:11nm

セリア:CeO2

 XRD回析パターン

XRD回析パターン

TEM写真 DBET:6nm

TEM写真 DBET:6nm

マグネシア:MgO

XRD回析パターン

XRD回析パターン

TEM写真 DBET:8nm

TEM写真 DBET:8nm

酸化タングステン:WO3

XRD回析パターン

XRD回析パターン

TEM写真 DBET:7nm

TEM写真 DBET:7nm

亜酸化銅:Cu2O

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:50nm

SEM写真 DBET:50nm

複合酸化物

導電性酸化物:ITO

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:20nm

SEM写真 DBET:20nm

同族固溶酸化物:(Ca0.1Ba0.9)(Zr0.2Ti0.8)O3

XRD回析パターン

XRD回析パターン

 SEM写真 DBET:30nm

SEM写真 DBET:30nm

イットリア安定化ジルコニア:YSZ

イットリア安定化ジルコニア:YSZ

弗化物

弗化マグネシウム:MgF2

XRD回析パターン

XRD回析パターン

 SEM写真 DBET:40nm

SEM写真 DBET:40nm

硫化物

硫化カルシウム:CaS

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:30nm

SEM写真 DBET:30nm

コアシェル

鉄,コバルト(コア)-アルミナ(シェル):Fe,Co-Al2O3

XRD回析パターン

XRD回析パターン

SEM写真 DBET:40nm

SEM写真 DBET:40nm

球状化処理

チタン酸バリウム:BaTiO3

原料
SEM写真

SEM写真

arrow2
加工後
SEM写真

SEM写真

アルミナ:Al2O3

原料
SEM写真

SEM写真

arrow2
加工後
SEM写真

SEM写真

ステンレス:SUS304

原料
SEM写真

SEM写真

arrow2
加工後
SEM写真

SEM写真

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049-264-3322

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